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  1. Boning, Duane S. [HerausgeberIn]

    Chemical-mechanical planarization : symposium held April 22 - 24, 2003, San Francisco, California, U.S.A. ; [papers presented at Symposium F, held at the 2003 MRS spring meeting]

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    Warrendale, Pa.: Materials Research Society, 2003

    Erschienen in: Materials Research Society: Materials Research Society symposium proceedings ; 76700

  2. Choi, Seung-Hoon; Kreider, Melissa E.; Nielander, Adam C.; Burke Stevens, Michaela; Kamat, Gaurav Ashish; Koo, Ja Eung; Bae, Ki Ho; Kim, Hoyoung; Yoon, Il Young; Yoon, Bo Un; Hwang, Kihyun; Lee, Dong Un; Jaramillo, Thomas F.

    Origins of Wear-Induced Tungsten Corrosion Defects in Semiconductor Manufacturing During Tungsten Chemical Mechanical Polishing

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    Elsevier BV, 2022

    Erschienen in: SSRN Electronic Journal