Media type: Book; Thesis Title: Multiscale simulation of metallic copper and copper oxide atomic layer deposition from Cu Beta-diketonates Other titles: Abweichender Titel: Multiskalensimulation der Atomlagenabschscheidung von metallischem Kupfer und Kupferoxid aus Cu Beta-Diketonate Contributor: Hu, Xiao [VerfasserIn] imprint: Chemnitz: Universitätsverlag Chemnitz, 2018 Issue: [1. Auflage] Extent: 197 Seiten; Illustrationen; 21 cm Language: German; English ISBN: 9783961000531; 3961000530 RVK notation: ZN 4150 : Dünnschichttechnologie ZN 4154 : Herstellungsverfahren Keywords: Leiterbahn > Atomlagenabscheidung > Kupferoxide > Kupfer > Diketonate > Ausgangsmaterial > Oberflächenchemie > Mehrskalenanalyse > Simulation Atomlagenabscheidung > Oberflächenchemie > Leiterbahn > Mehrskalenanalyse > Kupferverbindungen Origination: University thesis: Dissertation, Technische Universität Chemnitz, 2017 Footnote:
Departmental Library DrePunct – stack Shelf-mark: 2018 8 019355 Item ID: 34154420 Status: Place order for use in library, no dispatch by interlibrary loan; delivery of photocopies possible > Ordering possible ‒ please log in