Ion-induced stress relaxion during the growth of cubic boron nitride thin films

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Medientyp: Buch; Hochschulschrift
Titel: Ion-induced stress relaxion during the growth of cubic boron nitride thin films
Weitere Titel: Abweichender Titel: Ion-induced stress relaxation during the growth of cubic boron nitride thin films
Beteiligte: Abendroth, Barbara [VerfasserIn]
Erschienen: Dresden: Forschungszentrum Rossendorf, 2004
Erschienen in: Forschungszentrum Rossendorf: Wissenschaftlich-technische Berichte ; 406
Umfang: IV, 111 S.; Ill., graph. Darst
Sprache: Englisch
RVK-Notation: UP 7750 : Leitfähigkeit dünner Schichten
UP 7500 : Allgemeines
Schlagwörter: Bornitrid > Dünne Schicht > Magnetronsputtern > Spannungsrelaxation > XANES > Röntgendiffraktometrie
Entstehung:
Hochschulschrift: Zugl.: Dresden, Techn. Univ., Diss., 2004
Anmerkungen:
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0 : Wissenschaftlich-technische Berichte

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