> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: Buch; Hochschulschrift Titel: Spektroskopische und mikroskopische Untersuchungen zur Bildung von Siliciumoxidschichten aus einem zweistufigen Plasmaverfahren Beteiligte: Wurlitzer, Lisa [VerfasserIn]; Maus-Friedrichs, Wolfgang [AkademischeR BetreuerIn] Körperschaft: Technische Universität Clausthal ; Shaker Verlag Erschienen: Düren: Shaker Verlag, 2021 Erschienen in: Fortschrittsberichte der Materialforschung und Werkstofftechnik ; 9 Umfang: XI, 154 Seiten; Diagramme, Illustrationen; 21 cm x 14.8 cm, 258 g Sprache: Deutsch ISBN: 9783844078107; 384407810X RVK-Notation: ZQ 9910 : Verfahrenstechnik; Energietechnik Schlagwörter: Siliciumdioxid > PECVD-Verfahren > Dünne Schicht > Rasterkraftmikroskopie > Konfokale Mikroskopie > Röntgen-Photoelektronenspektroskopie Entstehung: Hochschulschrift: Dissertation, Technische Universität Clausthal, 2020 Anmerkungen: Literaturverzeichnis: Seite 139-154 Weitere Bestandsnachweise 0 : Fortschrittsberichte der Materialforschung und Werkstofftechnik