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Medientyp: Buch Titel: Ultraclean surface processing of silicon wafers : secrets of manufacturing Werktitel: Silicon wafer hyomen no clean-ka gijutsu <dt.> Silicon wafer hyomen no clean-ka gijutsu <engl.> Beteiligte: Hattori, Takeshi [Hrsg.] Erschienen: Berlin; Heidelberg [u.a.]: Springer, 1998 Umfang: XXVIII, 616 S; Ill., graph. Darst Sprache: Englisch ISBN: 3540616721 RVK-Notation: UP 3100 : Halbleitermaterialien, Allgemeines ZN 4100 : Allgemeines ZN 4150 : Dünnschichttechnologie Schlagwörter: VLSI > SOI-Technik > Wafer > Oberflächenreinigung Entstehung: Anmerkungen: Literaturangaben. - Aus dem Japan. übers
Zentralbibliothek Signatur: ZN 4100 H366 Barcode: 30610283 Status: Verfügbarkeit bitte in Prof Halbleiterphysik erfragen.