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Medientyp: E-Artikel Titel: Evaluation of direct patternable inorganic spin-on hard mask materials using electron beam lithography Beteiligte: Thrun, Xaver; Choi, Kang-Hoon; Freitag, Martin; Grenville, Andrew; Gutsch, Manuela; Hohle, Christoph; Stowers, Jason K.; Bartha, Johann W. Erschienen: Elsevier BV, 2012 Erschienen in: Microelectronic Engineering Sprache: Englisch DOI: 10.1016/j.mee.2012.07.017 ISSN: 0167-9317 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Atomic and Molecular Physics, and Optics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: