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Medientyp: E-Artikel Titel: 15days electron beam exposure for manufacturing of large area silicon based NIL master Beteiligte: Thrun, Xaver; Choi, Kang-Hoon; Freitag, Martin; Gutsch, Manuela; Hohle, Christoph; Paul, Jan; Rudolph, Matthias; Steidel, Katja Erschienen: Elsevier BV, 2013 Erschienen in: Microelectronic Engineering Sprache: Englisch DOI: 10.1016/j.mee.2013.02.082 ISSN: 0167-9317 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Atomic and Molecular Physics, and Optics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: