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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Demonstration of 22nm SRAM features with patternable hafnium oxide-based resist material using electron-beam lithography Beteiligte: Thrun, Xaver; Choi, Kang-Hoon; Freitag, Martin; Grenville, Andrew; Gutsch, Manuela; Hohle, Christoph; Stowers, Jason K.; Bartha, Johann W. Erschienen: SPIE, 2012 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.917814 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: