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Medientyp: E-Artikel Titel: Experimental Analysis of Vapor HF Etch Rate and Its Wafer Level Uniformity on a CMOS-MEMS Process Beteiligte: Valle, Juan; Fernandez, Daniel; Madrenas, Jordi Erschienen: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2016 Erschienen in: Journal of Microelectromechanical Systems Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1109/jmems.2016.2533267 ISSN: 1057-7157; 1941-0158 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Mechanical Engineering Entstehung: Anmerkungen: