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  4. Zanders, David [VerfasserIn] ; Devi, Anjana [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Barry, Seán Thomas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Kessels, Erwin [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] Fakultät für Chemie und Biochemie

    Cobalt and ruthenium complexes for vapor phase deposition processes of metallic thin films : precursor design, surface reaction chemistry and thin film applications

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    Bochum: Ruhr-Universität Bochum, 2023

  7. Dhakal, Dileep [VerfasserIn]; Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; E. Schulz, Stefan [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Mothes, Robert [VerfasserIn]; Tuchscherer, Andre [VerfasserIn] ; Fraunhofer ENAS

    Surface chemistry of a Cu(I) beta-diketonate precursor and the atomic layer deposition of Cu2O on SiO2 studied by x-ray photoelectron spectroscopy

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    Chemnitz : Technische Universität Chemnitz, [2014]

  8. Hu, Xiao [VerfasserIn] ; Schulz, Stefan E. [AkademischeR BetreuerIn]; Schulz, Stefan E. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Bartha, Johann W. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Elliott, Simon D. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Multiscale Simulation of Metallic Copper and Copper Oxide Atomic Layer Deposition from Cu Beta-diketonates

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    Chemnitz: Universitätsverlag der Technischen Universität Chemnitz; Chemnitz: Technische Universität Chemnitz, 2018

  9. Dhakal, Dileep [VerfasserIn] ; Schulz, Stefan E. [AkademischeR BetreuerIn]; Schulz, Stefan E. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Lang, Heinrich [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Growth Monitoring of Ultrathin Copper and Copper Oxide Films Deposited by Atomic Layer Deposition

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    Chemnitz: Universitätsbibliothek Chemnitz, 2017