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  1. Besmann, T. M. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Besmann, Theodore M. [HerausgeberIn] ; International Conference on Chemical Vapor Deposition 13 1996 Los Angeles, Calif, Electrochemical Society High Temperature Materials Division, Electrochemical Society Dielectric Science and Technology Division

    Proceedings of the Thirteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition : [held as part of the Electrochemical Society Meeting in Los Angeles, California, Mai 5 - 10, 1996]

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    Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1996

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 19960500

  2. Chemical vapor deposition : CVD

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    Weinheim: Wiley-VCH, 1995-2010 ; Weinheim: VCH-Verlagsges., anfangs / 1.1995,1(Juli) - 16.2010

    Erschienen in: Advanced materials

  3. Löffler-Peters, Andrea [VerfasserIn] ; Technische Universität Hamburg-Harburg Arbeitsbereich Halbleitertechnologie

    Untersuchungen zur strukturierten Abscheidung von Silizium und Siliziumverbindungen mit Hilfe des Laser-CVD-Verfahrens - [Als Ms. gedr.]

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    Düsseldorf: VDI-Verl., 1992

    Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschritt-Berichte VDI ; 231

  4. Roder, Kristina [VerfasserIn] ; Technische Universität Chemnitz

    Matrix- und Interfacedesign bei faserverstärkter Keramik auf Basis des Flüssigsilicierverfahrens

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    Chemnitz: Technische Universität, Fakultät für Maschinenbau, Institut für Werkstoffwissenschaft und Werkstofftechnik, 2016

    Erschienen in: Schriftenreihe Werkstoffe und werkstofftechnische Anwendungen ; 60